Wet Clean工程のためのLED加熱システム
LED Heating System
Overview
光でウェハーを加熱します
LEDから放出された光エネルギーがウェハーと表面膜質に吸収され、熱エネルギーに変換されます。この光熱効果でウェハー–薬液界面の温度を素早く上昇させ、工程反応を促進します。多チャンネル独立駆動により、ウェハーのセンターとエッジの温度偏差を精密に補正します。
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Heating Principle
光がウェハーの内部で熱になります
- 光エネルギー照射LEDの光エネルギーをウェハー全面に均一に照射
- 光エネルギー吸収ウェハーと表面膜質が光エネルギーを選択的に吸収
- 光熱エネルギー変換吸収されたエネルギーが熱に変わり、ウェハー–薬液界面を素早く加熱
Line-up
150℃のMediumと350℃のHigh end
Medium · 普及型
中温工程向け
- ウェハー150℃基準・最大250℃まで上昇
- 均一度 ±3%(Dry)・±1%(Wet)
High · High End
高温工程向け・精密制御
- ウェハー350℃基準・最大400℃
- 均一度 ±3%(Dry)・±1%(Wet)
CONTROLLER
精密な高速制御を、より小さく
複雑だった大型制御盤を、一つのコンパクトなコントローラーに。設置スペースは減らし、装置設計の自由度は高めました。
- Size280 x 510 x 75mm の超小型サイズ
- Weight10kgの超軽量設計
- Power9KW級の大容量出力制御
- ControlLEDヒーターのマルチチャンネル高速制御
- Software自社開発GUIによる精密制御
ヒーターからソフトウェアまで、一つの完成されたシステム
ヒーターの設計・製作から専用コントローラー、自社開発のGUIまで、HS HI-TECHが全工程を自ら提供します。
ONE COMPANY · ONE SYSTEM · ONE-STOP SUPPORT
特許で実現したLED光熱ベースのウェハー直接加熱技術
LED光エネルギーの照射・吸収・熱エネルギー変換から、ウェハー全面・エッジ加熱とマルチチャンネル精密駆動まで、HS HI-TECHは独自の特許技術で新しいウェハー加熱の基準を示します。
| 特許番号 | タイトル | 内容 |
|---|---|---|
| KR 10-2102277 | 領域別の独立制御 | 加熱領域を個別に制御し、ウェハー全域で均一な温度を実現します。 |
| KR 10-2244605 | LED加熱構造の高度化 | ウェハー工程に最適化したLED加熱構造で、効率と安定性を高めました。 |
| KR 10-2232654 | ウェハーエッジの加熱 | 傾斜配置のLEDでウェハーの外周部まで効果的に加熱します。 |
| KR 10-2888196 | マルチチャンネルの精密制御 | チャンネルごとの独立制御で、高温工程でも精密かつ均一な加熱を実現します。 |
技術の違いは結果で証明されます
より均一な熱・より精密な制御・より安定した工程。HS HI-TECHの特許に基づくLED Heating技術が、工程効率と生産性の向上に最適なソリューションを提供します。
