빛으로 웨이퍼를 가열하는 세정공정용 히팅 시스템
LED Heating System
Overview
빛으로 웨이퍼를 가열합니다
LED 에서 방출된 광에너지가 웨이퍼와 표면 막질에 흡수되어 열에너지로 전환됩니다. 이러한 광열 효과로 웨이퍼–약액 계면 온도를 빠르게 상승시켜 공정 반응을 촉진합니다. 다채널 독립 구동을 통해 웨이퍼 센터와 엣지 온도 편차를 정밀하게 보정합니다.
견적 · 기술 문의
Heating Principle
빛이 웨이퍼 안에서 열이 됩니다
- 광에너지 조사LED 광에너지를 웨이퍼 전면에 균일하게 조사
- 광에너지 흡수웨이퍼와 표면 막질이 광에너지를 선택적으로 흡수
- 광열에너지 전환흡수된 에너지가 열로 전환되어 웨이퍼–약액 계면을 신속하게 가열
Line-up
150℃ 보급형과 350℃ High End
Medium · 보급형
중온 공정용
- 웨이퍼 150℃ 기준 · 최대 250℃ 상승
- 균일도 ±3%(Dry) · ±1%(Wet)
High · High End
고온 공정용 · 정밀 제어
- 웨이퍼 350℃ 기준 · 최대 400℃
- 균일도 ±3%(Dry) · ±1%(Wet)
CONTROLLER
정밀한 고속 제어, 크기는 더 작게
복잡했던 대형 제어반을 하나의 콤팩트 컨트롤러로. 설치 공간은 줄이고, 장비 설계의 자유도는 높였습니다.
- Size280 x 510 x 75mm 초소형 크기
- Weight10kg의 초경량 설계
- Power9KW 급 대용량 출력 제어
- Control엘이디 히터 멀티 채널 고속 제어
- Software자체 개발 GUI 기반 정밀 제어
히터부터 소프트웨어까지, 하나의 완성된 시스템
히터 설계·제작부터 전용 컨트롤러와 자체 개발 GUI까지, HS HI-TECH가 전 과정을 직접 제공합니다.
ONE COMPANY · ONE SYSTEM · ONE-STOP SUPPORT
특허로 구현한 LED 광열 기반 웨이퍼 직접 가열 기술
LED 광에너지의 조사 · 흡수 · 열에너지 전환부터 웨이퍼 전면 · 에지 가열과 멀티채널 정밀 구동까지, HS HI-TECH 는 독자적인 특허 기술로 새로운 웨이퍼 가열 기준을 제시합니다.
| 특허 번호 | 제목 | 내용 |
|---|---|---|
| KR 10-2102277 | 영역별 독립 제어 | 가열 영역을 개별 제어해 웨이퍼 전 영역의 균일한 온도를 구현합니다. |
| KR 10-2244605 | LED 가열 구조 고도화 | 웨이퍼 공정에 최적화된 LED 가열 구조로 효율과 안정성을 높였습니다. |
| KR 10-2232654 | 웨이퍼 엣지 가열 | 경사 배치 LED로 웨이퍼 가장자리까지 효과적으로 가열합니다. |
| KR 10-2888196 | 멀티채널 정밀 제어 | 채널별 독립 제어로 고온 공정에서도 정밀하고 균일한 가열을 실현합니다. |
기술의 차이는 결과로 증명됩니다
더 균일한 열 · 더 정밀한 제어 · 더 안정적인 공정. HS HI-TECH의 특허 기반 LED Heating 기술이 공정 효율과 생산성 향상을 위한 최적의 솔루션을 제공합니다.
